Extensión

MODUS, Observatorio Sistema Moda UDP participará en seminario que vincula el arte y moda

20/05/2016

La actividad se realizará los días 25,26 y 27 de mayo en el MAC del Parque Forestal.

Buscando posicionarse dentro del mundo de las industrias creativas y en lo específico en la moda en Chile, el proyecto MODUS, Observatorio Sistema Moda de la Facultad de Arquitectura, Arte y Diseño de la Universidad Diego Portales, participará del Seminario “Arte/Moda: Intersecciones”, el que se realizará los días 25,26 y 27 de mayo en el Museo de Arte Contemporáneo (MAC) del Parque Forestal y que es organizado por el Departamento de Estética de la Universidad de Chile.

MODUS, de acuerdo a lo señalado por su directora, la académica Bárbara Pino, es un proyecto que “observa, mira y mapea el escenario de la moda  buscando entender cuáles son los principales actores del sistema de la moda en Chile”.

“Nosotros hablamos de Sistema de la Moda porque, en general, el concepto de la moda es entendido simplemente como el diseño del indumento o de la ropa que usamos diariamente. No obstante, existe un modelo económico que gira en torno a esto, el cual tiene mucho que ver con el mundo de la editoría o el mundo del comercio, el que a su vez se asocia al retail o a aquellas empresas que se dedican a la exportación e importación de textiles”, señala Pino. 

Para la responsable de este nuevo proyecto académico UDP, otro de los elementos importantes a destacar “tiene que ver con el impacto que tiene la moda en las diferentes sociedades donde se ve representada como un medio de expresión que se proyecta en la sociedad, transformándose en una especie de espejo de la identidad de cada uno y de las culturas en sí mismas”.

Aseguró que “desde el punto de vista del diseño y desde una mirada algo más sociológica y antropológica, la moda siempre ha sido un reflejo de la cultura de los tiempos. Entonces, desde la academia, nosotros buscamos darle una dimensión más científica a estos temas que en otras partes del mundo sí se abordan desde ese ámbito”.

Seminario “Arte/Moda: Intersecciones”

El seminario “Arte/Moda: Intersecciones”  busca instalar el concepto de la moda como tema de reflexión académica desde las artes visuales y dar cuenta del valor cultural y estético que la indumentaria posee; mostrándola en su sentido más amplio como todo aquello que es usado en el cuerpo y que puede incluir ámbitos como el maquillaje, los tatuajes,  la orfebrería o la joyería.

El encuentro –organizado por el profesor de la Universidad de Chile Alexis Carreño– propone analizar la moda desde diferentes puntos de vista, temáticas relacionadas a los diseñadores emergentes, a las artistas visuales, a los fotógrafos y a los joyeros. 

Pino especificó que “este es el primer encuentro que se realiza con el concepto de moda como protagonista, porque acá en Chile, se ha menospreciado la idea y se la ha considerado desde un punto de vista totalmente banal o superficial. Por esto que la invitación a ser auspiciadores del evento es interesante, ya que nos permite observar criticamente el ámbito de la moda y el arte en nuestro territorio”.   

Durante el encuentro, también se explorará la íntima relación de la indumentaria con la imagen a través de la fotografía de moda, cuyo valor artístico ha sido cuestionado en numerosas ocasiones.

Asimismo, se revisará la importancia de los llamados “fashion films”, género de reciente gestación que registra y (re)imagina el cuerpo vestido en movimiento. Además se hará un análisis de las indumentarias textiles, asumiendo que la base de cualquier forma de vestir se basa en la fibra y el tejido.